В предыдущей статье [1] было рассказано, как эффективно провести модернизацию системы управления уникального станка, длительный простой которого невозможен или может привести к срыву технологического процесса предприятия или даже группы предприятий.
В этой статье покажем (на конкретном примере), как можно заменой системы управления значительно повысить производительность станка (без изменения кинематической схемы и без замены исполнительных механизмов). В качестве примера выбран вибрационно-высечный станок Trumatic 235, выпускавшийся в 1980–1990 гг. западногерманской фирмой Trumpf и до сих пор достаточно эффективно используемый в машиностроении (рис. 1). Следует обратить внимание, что речь не идет об очевидном эффекте, связанном с упрощением (и, следовательно, ускорением) процедуры разработки управляющих программ, в том числе возможностью разработки управляющих программ больших размеров и замены нескольких технологических переходов одним.
Станок эксплуатируется на одном из предприятий авиастроения с 1984 г. За это время были проведены две модернизации системы управления. При первой модернизации система управления Siemens была заменена на систему управления «ДиаНа-CNCСМ» под управлением промышленного компьютера PCM-9375, а блоки управления электроавтоматикой и исполнительными механизмами Siemens — на блоки серии «ДиаНа-PS» (рис. 2). При второй модернизации система управления «ДиаНа-CNC-СМ» была заменена на систему управления «ДиаНа-CNC-RPI» (рис. 3) под управлением промышленного компьютера Raspberry Pi 3.
Технология работы на станке предполагает обязательный выбор базовой точки для привязки конкретной детали к листу (заготовке). Традиционно это выполнялось следующим образом: оператор с помощью линейки измерял координаты расположения свободной зоны листа, достаточной для высечки детали, после чего вводил в СЧПУ координаты X и Y базовой точки. При благоприятном стечении обстоятельств вся процедура занимала 40–50 с. После модернизации для выбора базовой точки стало достаточно коснуться пальцем или стилусом точки на сенсорном мониторе (рис. 4).