По всем вопросам звоните:

+7 495 274-22-22

УДК: 681.22

Ионно-плазменные и лучевые технологии изготовления прецизионных деталей

Безуглова А. В. техник, E-mail: bezuglovaav@student.bmstu.ru, Московский государственный технический университет имени Н. Э. Баумана (105005, Москва, 2-я Бауманская ул., д. 5), АО «ЦЭНКИ» (129110, Москва, ул. Щепкина, д. 42, стр. 2)
Горда Н. Е. техник, E-mail: gordane@student.bmstu.ru, Московский государственный технический университет имени Н. Э. Баумана (105005, Москва, 2-я Бауманская ул., д. 5), АО «ЦЭНКИ» (129110, Москва, ул. Щепкина, д. 42, стр. 2)

В данной статье рассматриваются современные ионно-плазменные и лучевые технологии, применяемые для изготовления прецизионных деталей в различных отраслях промышленности. Особое внимание уделяется преимуществам и недостаткам этих технологий, принципам их работы, областям применения и перспективам развития.

Литература:

1. Юльметова, О. С., Щербак, А. Г., Челпанов, И. Б. Специальные технологии изготовления прецизионных узлов и элементов гироскопических приборов // Ионно-плазменные и лучевые технологии изготовления прецизионных элементов гироскопических элементов. — 2017. — №7. — С. 132–147.

2. Свистова, Т. В. Лучевые и плазменные технологии. М.: Машиностроение, 2011. — 278 с.

3. Вейко, В. П. Лазерная микрообработка: опорный конспект лекций / В. П. Вейко. СПб.: СПБУ ИТМО, 2005. — 110 с.

4. Малышева, И. А. Технология производства интегральных микросхем: учебник / Н. А. Малышева. М.: Радио и связь, 1991. — 344 с.

5. Готра, З. Ю. Технология микроэлектронных устройств: справочник / З. Ю. Готра. М.: Радио и связь, 1991. — 528 с.

6. Голишников, А. А. Плазменные технологии в наноэлектронике: учеб. пособие / А. А. Голишников, М. Г. Путря. М.: МИЭТ, 2011. — 172 с.

Современная промышленность — микроэлектроника, аэрокосмическая отрасль или биомедицина — предъявляет все более высокие требования к точности, качеству и функциональности изготавливаемых деталей. Традиционные методы механической обработки, несмотря на многолетний опыт их применения, часто не могут обеспечить необходимую точность, чистоту поверхности и возможность обработки сложных форм. Ионно-плазменные и лучевые технологии представляют собой принципиально новый подход к прецизионному изготовлению, открывающий широкие возможности для создания деталей с уникальными характеристиками [1].

Технологии, основанные на направленном воздействии ионных или электронных пучков, а также лазерного излучения на обрабатываемый материал, позволяют осуществлять удаление, модификацию и нанесение слоев материала на атомарном уровне, обеспечивая высочайшую точность и контроль над процессом. На рис. 1, 2 представлено сравнение механической и лучевой обработки. В данной статье будут рассмотрены сущность и классификация ионно-плазменных и лучевых технологий, их преимущества и недостатки, а также области применения в различных отраслях промышленности.

Ионно-плазменные технологии используют плазму — частично ионизированный газ, содержащий ионы, электроны и нейтральные частицы — для обработки поверхности материалов [2]. Существует несколько основных видов ионно-плазменных технологий, каждая из которых основана на определенных физических и химических процессах. Рассмотрим подробнее.

Ионное распыление (Sputtering). В процессе ионного распыления ионы инертного газа (обычно аргона) с высокой энергией бомбардируют поверхность материала-мишени. В результате столкновений атомы мишени выбиваются с поверхности и осаждаются на подложку, формируя тонкую пленку [2]. Толщина пленки, ее состав и свойства могут контролироваться путем изменения параметров процесса, таких как мощность разряда, давление газа и температура подложки. Ионное распыление широко используется для нанесения тонких пленок металлов, диэлектриков и полупроводников в микроэлектронике, оптике и других областях [3].

Для Цитирования:
Безуглова А. В., Горда Н. Е., Ионно-плазменные и лучевые технологии изготовления прецизионных деталей. Главный механик. 2025;7.
Полная версия статьи доступна подписчикам журнала
Язык статьи:
Действия с выбранными: