Итальянский бренд BLS представил совершенно новую линейку складных трехпанельных фильтрующих респираторов‑полумасок BLS Zer0 flat 1‑го, 2‑го и 3‑го классов FFP.
В проектировании новинок были переработаны все составляющие, поэтому удалось достичь впечатляющего результата.
Конструкция и геометрия сложения в плоскую форму, тем не менее, позволяют идеально адаптироваться к форме лица и мимическим движениям, обеспечивая максимальную защиту и эффективность в любое время.
Откидная нижняя панель позволяет легко открыть изделие, не загрязнив внутреннюю часть: важно с точки зрения гигиены.
Выпускается в двух размерах — S и M/L — для адаптации ко всем типам лица. Размер S специально разработан для женского лица.
Создан новый клапан EOLO® повышенной эффективности. Сверхлегкая мембрана способствует быстрому отводу выдыхаемого воздуха в двух зонах максимального открытия, которые на 30% больше по сравнению с предыдущим клапаном. Благодаря такому усовершенствованию сопротивление дыханию значительно уменьшается.
Применен инновационный защитный наружный слой ARMOR®, предохраняющий фильтрующий материал от попадания грязи, пыли и жидкостей, а также от механических воздействий летящих частиц пыли, тем самым продлевая и сохраняя эффективность фильтрования и повышая надежность изделия.
Прокладка обтюратора изготовлена из новой полимерной пены, гарантирующей мягкое комфортное прилегание к лицу любого типа.
В конструкции для повышения формоустойчивости маски применен тонкий, но жесткий внутренний сердечник, действующий как распорка и обеспечивающий высокую воздухопроницаемость, сохраняя при этом низкое сопротивление дыханию.
Носовой зажим расположен внутри между слоями фильтрующего материала, он оптимально адаптируется к профилю носа и глаз, обеспечивая хорошую видимость и максимальную совместимость с очками.
Эластичные ленты в текстильной оплетке надежно присоединены к маске. Металлические скрепки не применяются.
В фильтрующие слои маски может быть добавлен слой активированного угля для защиты от неприятных запахов, газов и испарений как органических, так и кислотных, в том числе озона — создан задел для дальнейшего развития линейки.